染料廢水處理新技術
標簽:染料廢水處理
由于目前應用于實際染料廢水的染料廢水處理技術和經濟方面都難以滿足染料企業的需求。因此,許多環境科學技術工作者致力于研發新型染料廢水處理技術。近年來,關于染料廢水處理的新技術的研究活躍:超臨界水氧化技術,高溫深度氧化技術,低溫等離子體化學技術,超聲技術,萃取技術,光催化技術和芬頓氧化技術。
1、超臨界水氧化技術
超臨界水氧化法(SCWO)是指溫度和壓力高于水的臨界溫度(374℃)和臨界壓力(22.1Mpa)時水中有機物的氧化。隨著超臨界水汽液相界面的消失,飽和水與干燥飽和蒸汽之間的密度差將為零,從而成為均勻系統。在這個特殊的狀態點(臨界點),水中有機物的氧化反應速度非???。
2、低溫等離子體化學
等離子體是在特定條件下通過氣體(蒸氣)的部分電離產生的非冷凝系統。系統中重離子(例如離子,自由基,中性原子或分子)的溫度接近或略高于室溫,因此稱為等離子體。等離子體是低溫等離子體。低溫等離子體具有足夠高能量的活性物質,可以激發,電離或破壞反應物分子的鍵。
3、超聲波技術
超聲波技術是指利用超聲波輻射產生的空化效應在很短的時間內分解并釋放能量,從而形成具有極端物理和化學條件并含有高能量的“微反應器”,并使水分子分裂形成H2O2,廢水的超聲波處理是一種有效的新技術,可以加速染料的脫色和礦化速率。
4、提取技術
提取技術主要是通過使提取劑和污染物分子絡合來凈化廢水的技術,或者水中的污染物在載體的作用下通過薄膜進入提取內相。處理染料廢水的提取技術的實質是使用不溶性或不溶性溶劑從水中提取染料分子。
5、光催化降解技術
光催化氧化技術使用半導體作為催化劑。在光照條件下,半導體的價帶中會生成高度氧化的空穴,從而將水中的OH-和H2O分子氧化為強氧化的OH自由基。難降解的有機物通過·OH自由基氧化為CO2和H2O。常用的催化劑是TiO2,H2O2,Fe(C2O4)3和其他無機試劑。光催化氧化技術是近年來出現的新興技術,具有節能,高效,污染物徹底降解的明顯特征。
6、Fenton氧化技術
Fenton氧化技術是一種以H2O2為主體的先進氧化技術。Fenton試劑由Fe2+和H2O2組成。由Fe2+和H2O2反應生成的羥基(·OH)具有很強的氧化性(僅次于氟),并且是非選擇性的。它可以氧化并破壞有機聚合物的共軛體系結構,使其持久且難以降解染料有機物。降解為無色有機小分子,達到降解和脫色的目的。而且,芬頓氧化技術具有操作過程簡單,反應物容易獲得,成本低,無需復雜設備,環境友好的優點。它已逐漸應用于廢水處理項目,例如染料,防腐劑,相顯影劑和農藥。良好的應用前景和巨大的推廣價值。然而,從現有的研究結果來看,Fenton氧化技術仍存在需要提高氧化降解能力,污染物礦化緩慢以及廢水中鐵離子等缺點。改善Fenton反應中羥基自由基(·OH)的生成機理和反應條件,提高羥基自由基(·OH)的生成率和利用率將是該技術發展的必然趨勢。
盡管使用物理,化學和生化方法作為基本處理單元來處理某些染料廢水,但可以達到一定的處理效果。但是到目前為止,染料廢水仍然是較難處理的工業廢水之一。有必要考慮處理技術的先進性以及基礎設施投資和運營成本的可行性。因此,染料廢水處理技術主要集中在以下四個方面:高效率,適應性,經濟性和清潔性。
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