半導體污水處理方法
標簽:半導體污水處理
今天漓源環保介紹到半導體污水處理方法,在電子產品應用領域不斷擴大的今天,半導體對我國的發展意義重大。半導體所涉及的行業很廣,根據原料和工藝的不同,所產生的廢水性質也不同,但都具有排水量大、污染能力強的特點,在嚴重危害生態環境健康的同時,也制約了其發展。
企業根據半導體生產廢水的特點,可將半導體廢水分為三類,分別來自于生產過程中產生的含氟廢水、有機廢水和金屬離子廢水。
一是含氟廢水,廢水主要來源于半導體生產工序的腐蝕段,由于使用了大量氟化銨等試劑,氟化物、氨氮等污染物濃度較高,廢水一般呈強酸性;
二是有機廢水,其污染物主要是一些常規污染物,生產濃度與生產工藝和運行管理水平密切相關,COD一般在200~3000mg/L;
金屬離子廢水,半導體生產廢水中的金屬離子種類很多,主要有銅、鎳、錫、鉛、銀等,一般濃度在幾十mg/L左右;
含氟廢水一般采用化學沉降法,投加鈣鹽和水中氟離子形成CaF2,再配以混凝劑輔助可除去水中氟離子。出水率要求高時,可與生化法、吸附法等聯合使用。
一般采用經濟高效的生化處理方法處理有機廢水,如分別好氧法或與缺氧厭氧法結合處理,對廢水中COD、氨氮、總氮等常規污染物的去除效果十分可觀。
對于金屬離子廢水,則需要根據廢水的不同種類進行選擇,常用的有化學沉降法,吸附法,離子交換法等。
半導體工業生產對水的需求很大,對水的要求也不高,為了節約生產成本,一般建議采用廢水回用處理。以上為介紹的半導體污水處理方法,更多的污水處理知識請咨詢漓源環保。
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